产品分类 更多>>
半导体分立器件RCA硅晶圆片湿法刻蚀清洗机
本设备型号：CGB-XXXX—XX系列，品牌：华林嘉业—CGB适用于去除硅晶圆片工件表面的油污及其他有机物、除胶、去金属离子等。设备由清洗槽部分、伺服系统及机械臂部分、层流净化系统、电气控制系统、机架及整机部分组成。清洗槽部分由有机溶剂槽、去离子水槽、酸槽或碱槽等组成。关键件均采用原件，包括气动阀，PFA管道，全氟循环系统等，工作介质（酸、碱）的洁净度，避免杂质析出。 整体采用德国工程塑料焊接组合加工而成，结构合理，外型美观。工艺过程全自动，机械手在槽间的转换由两套伺服系统控制，可存储多条工艺时序
